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題目列表(包括答案和解析)

實(shí)驗(yàn)室需要0.1 mol/L　NaOH溶液450 mL和0.5 mol/L硫酸溶液450 mL．根據(jù)這兩種溶液的配制情況回答下列問(wèn)題：

(1)

根據(jù)計(jì)算得知，所需質(zhì)量分?jǐn)?shù)為98％、密度為1.84 g/cm³的濃硫酸的體積為_(kāi)_______mL(計(jì)算結(jié)果保留一位小數(shù))．

(2)

如圖所示的儀器中配制溶液肯定不需要的是________(填序號(hào))，儀器C的名稱(chēng)是________，本實(shí)驗(yàn)所需玻璃儀器E的名稱(chēng)為_(kāi)_______

(3)

下列操作中，容量瓶所不具備的功能有(填序號(hào))．
A．	配制一定體積準(zhǔn)確濃度的標(biāo)準(zhǔn)溶液
B．	長(zhǎng)期貯存溶液
C．	用來(lái)加熱溶解固體溶質(zhì)
D．	量取一定體積的液體

(4)

在配制NaOH溶液實(shí)驗(yàn)中，其他操作均正確．若定容時(shí)仰視刻度線，則所配制溶液濃度________0.1 mol/L(填“大于”“等于”或“小于”，下同)．若NaOH溶液未冷卻即轉(zhuǎn)移至容量瓶定容，則所配制溶液濃度________0.1 mol/L．

(5)

下圖為實(shí)驗(yàn)室某濃鹽酸試劑瓶標(biāo)簽上的有關(guān)數(shù)據(jù)，試根據(jù)標(biāo)簽上的有關(guān)數(shù)據(jù)回答下列問(wèn)題：

(1)該濃鹽酸中HCl的物質(zhì)的量濃度為_(kāi)_______

(2)取用任意體積的該鹽酸溶液時(shí)，下列物理量中不隨所取體積的多少而變化的是________．

A．溶液中HCl的物質(zhì)的量

B．溶液的濃度

C．溶液中Cl－的數(shù)目

D．溶液的密度

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晶體硅是一種重要的非金屬材料．制備純硅的主要步驟如下：
①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅 ②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制SiHCl₃：Si+3HCl

300℃

SiHCl₃+H₂
③SiHCl₃與過(guò)量H₂在1000～1100℃反應(yīng)制得純硅．
已知SiHCl₃能與H₂O強(qiáng)烈反應(yīng)，在空氣中易自燃．請(qǐng)回答下列問(wèn)題：
（1）第①步制備粗硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為

SiO₂+2C

高溫

Si+2CO↑

SiO₂+2C

高溫

Si+2CO↑

．
（2）粗硅與HCl反應(yīng)完全后，經(jīng)冷凝得到的SiHCl₃（沸點(diǎn)33.0℃）中含有少量SiCl₄（沸點(diǎn)57.6℃）和HCl（沸點(diǎn)-84.7℃），提純SiHCl₃采用的方法為：

分餾

．
（3）用SiHCl₃與過(guò)量H₂反應(yīng)制備純硅的裝置如下（熱源及夾持裝置略去）：
①裝置B中的試劑是

濃硫酸

，裝置C中的燒瓶需要加熱，其目的是：

使滴入燒瓶中的SiHCl₃氣化

．
②反應(yīng)一段時(shí)間后，裝置D中觀察到的現(xiàn)象是

英管的內(nèi)壁附有灰黑色晶體

，裝置D不能采用普通玻璃管的原因是

高溫下，普通玻璃會(huì)軟化

，裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為

SiHCl₃+H₂

高溫

Si+3HCl

SiHCl₃+H₂

高溫

Si+3HCl

．
③為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功，操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性，控制好反應(yīng)溫度以及

先通一段時(shí)間H₂，將裝置中的空氣排盡

．
④為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì)，將試樣用稀鹽酸溶解，取上層清液后需再加入的試劑（填寫(xiě)字母代號(hào)）是

a．碘水b．氯水c．NaOH溶液d．KSCN溶液e．Na₂SO₃溶液．

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28.晶體硅是一種重要的非金屬材料，制備純硅的主要步驟如下：

①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅

②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl₃：Si+3HClSiHCl₃+H₂

③SiHCl₃與過(guò)量H₂在1000～1100℃反應(yīng)制得純硅

已知SiHCl₃能與H₂O強(qiáng)烈反應(yīng)，在空氣中易自燃。

請(qǐng)回答下列問(wèn)題：

(1)第①步制備粗硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為_(kāi)______________________________。

(2)粗硅與HCl反應(yīng)完全后，經(jīng)冷凝得到的SiHCl₃(沸點(diǎn)33.0℃)中含有少量SiCl₄(沸點(diǎn)57.6℃)和HCl(沸點(diǎn)-84.7℃)，提純SiHCl₃采用的方法為_(kāi)___________________。

(3)用SiHCl₃與過(guò)量H₂反應(yīng)制備純硅的裝置如下(熱源及夾持裝置略去)：

①裝置B中的試劑是_________________________。

裝置C中的燒瓶需要加熱，其目的是_____________________________________。

②反應(yīng)一段時(shí)間后，裝置D中觀察到的現(xiàn)象是______________________________________，裝置D不能采用普通玻璃管的原因是____________________________________，裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為_(kāi)_________________________________________。

③為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功，操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性，控制好反應(yīng)溫度以及______________________________________。

④為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì)，將試樣用稀鹽酸溶解，取上層清液后需再加入的試劑(填寫(xiě)字母代號(hào))是_________________。

a.碘水 b.氯水 c.NaOH溶液 d.KSCN溶液 e.Na₂SO₃溶液

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晶體硅是一種重要的非金屬材料，制備純硅的主要步驟如下：

①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅

②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl₃:

Si+3HClSiHCl₃+H₂

③SiHCl與過(guò)量H₂在1 000—1 100℃反應(yīng)制得純硅

已知SiHCl₃能與H₂O強(qiáng)烈反應(yīng)，在空氣中易自然。

請(qǐng)回答下列問(wèn)題：

(1)第①步制備粗硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為_(kāi)_________________________________________。

(2)粗硅與HCl反應(yīng)完全后，經(jīng)冷凝得到的SiHCl₃(沸點(diǎn)33.0℃)中含有少量SiCl₄(沸點(diǎn)57.6℃)和HCl(沸點(diǎn)-84.7℃),提純SiHCl₃采用的方法為_(kāi)______。

(3)用SiHCl₃與過(guò)量H₂反應(yīng)制備純硅的裝置如圖1-3-8(熱源及夾持裝置略去)：

圖1-3-8

①裝置B中的試劑是_______。

裝置C中的燒瓶需要加熱，其目的是_____________________________________________。

②反應(yīng)一段時(shí)間后，裝置D中觀察到的現(xiàn)象是______________________________________。

裝置D不能采用普通玻璃管的原因是_______________，裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為_(kāi)_____________________________。

③為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功，操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性，控制好反應(yīng)溫度以及_______。

④為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì)，將試樣用稀鹽酸溶解，取上層清液后需再加入的試劑(填寫(xiě)字母代號(hào))是_______。

a.碘水 b.氯水 c.NaOH溶液 d.KSCN溶液 e.Na₂SO₃溶液

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（18分）晶體硅是一種重要的非金屬材料。制備純硅的主要步驟如下：

①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅

②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制SiHCl₃：Si＋3HCl　　　　SiHCl₃＋Ｈ₂

③SiHCl₃與過(guò)量Ｈ₂在1000～1100℃反應(yīng)制得純硅。

已知SiHCl₃能與Ｈ₂Ｏ強(qiáng)烈反應(yīng)，在空氣中易自燃。

請(qǐng)回答下列問(wèn)題：

（1）第①步制備粗硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為　　　　　　　　　　　　　　　　　。

（2）粗硅與HCl反應(yīng)完全后，經(jīng)冷凝得到的SiHCl₃（沸點(diǎn)33.0℃）中含有少量SiCl₄（沸點(diǎn)57.6℃）和HCl（沸點(diǎn)－84.7℃），提純SiHCl₃采用的方法為：　　　　　　　　　　　　。

（3）用SiHCl₃與過(guò)量Ｈ₂反應(yīng)制備純硅的裝置如下（熱源及夾持裝置略去）：

①裝置Ｂ中的試劑是　　　　　　　　，裝置Ｃ中的燒瓶需要加熱，其目的是：　　　　　　　　　。

②反應(yīng)一段時(shí)間后，裝置Ｄ中觀察到的現(xiàn)象是　　　　　　　，裝置Ｄ不能采用普通玻璃管的原因是　　　　　，裝置Ｄ中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為　　　　　　　　　　　　　　　。

③為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功，操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性，控制好反應(yīng)溫度以及　　　　。

④為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì)，將試樣用稀鹽酸溶解，取上層清液后需再加入的試劑（填寫(xiě)字母代號(hào)）是　　　　　　　　　　

ａ．碘水ｂ．氯水ｃ．ＮaＯＨ溶液ｄ．KSCN溶液ｅ．Ｎa₂ＳＯ₃溶液

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選擇題

題號(hào)

答案

題號(hào)

答案

21^．（¹^）²⁴FeSO₄+30HNO₃→8Fe（NO₃）₃+8Fe₂（SO₄）₃+3N₂O+15H₂O

（2）FeSO₄ +5價(jià)N （3）得到 4

22．（1）>。在亞硫酸氫鈉溶液中，存在HSO₃^-的電離平衡：HSO₃^- H⁺+SO₃^2-，還有HSO₃^-的水解平衡：HSO₃^-+H₂OH₂SO₃+OH^-。由題給信息[SO₃^2-]>[H₂SO₃]可得出，其水解程度比電離程度弱，所以可確定[H⁺]>[OH^-]。

（2）含酚酞的氫氧化鈉溶液的紅色褪去，溶液呈無(wú)色。加入少量氫氧化鈉溶液時(shí)，只有HSO₃^-反應(yīng)，反應(yīng)的離子方程式為：HSO₃^-+OH^-=SO₃^2-+H₂O。

23．（1） 0.01mol/L. min

（2） a=0.05 mol/L 圖象如右

（3） BD

24．（1）Br₂；Fe³⁺

（2）

乙同學(xué)正確

選用試劑

實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象

第一種方法

有機(jī)層無(wú)色

第二種方法

溶液變紅

（3）Fe²⁺；不可以，因?yàn)锽r₂和Fe³⁺都能把I^―氧化成I₂

25．（1）b；

（2）將亞鐵離子氧化為鐵離子；

（3）除去過(guò)量的硫酸；不引入新的雜質(zhì)；

（4）Fe³⁺+3H₂O=Fe（OH）₃↓+3H⁺；（條件：加熱）

（5）抑制Cu²⁺的水解；產(chǎn)生污染環(huán)境的二氧化硫，硫酸利用率低；加熱，并在稀硫酸中通入氧氣。（注：本題為發(fā)散性試題，如有其它合理答案，酌情給分）

26．⑴ C₆H₅－CH－¹⁸OH CH₃CH₂－－¹⁸OH

⑵C₆H₅－CH－¹⁸OH＋HCOOHHCO¹⁸O－CH－C₆H₅＋H₂O

⑶

計(jì)算題

27．（1）0.8mol/L （2）29.6%

附加題

1．B

2．C

3．（1）除去混在氫氣中的酸性氣體

（2）A B、C；將E中的產(chǎn)生的硫酸亞鐵溶液壓入D中

（3）②

（4）用氫氧化鈉溶液除去混在氫氣中的酸性氣體；氫氧化鈉溶液重復(fù)使用；用氫氣驅(qū)趕氧氣，防止亞鐵鹽被氧化；等其它合理答案

同步練習(xí)冊(cè)答案

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練習(xí)冊(cè)

高中

初中

小學(xué)